微电子制造是未来过滤器技术要求的最大驱动力。凭借多年的经验，我们的研发工程师已经做好准备，迎接这些所谓微型环境的极端挑战--这些环境必须几乎没有灰尘颗粒。
微电子生产中的空气过滤
微电子生产需要极其洁净的环境，因为即使是最小的颗粒也会严重影响半导体芯片的功能和质量。这些高要求使得空气过滤成为生产中必不可少的一部分。
空气过滤的挑战和要求
微芯片生产过程，尤其是洁净室的生产过程，需要一个几乎没有颗粒和病菌的环境。即使是直径只有几微米的灰尘颗粒，也会导致芯片微小结构的缺陷。该领域空气过滤的关键因素是
- 无颗粒：空气中必须没有任何污染物，包括灰尘、气溶胶和化学残留物。
- 微生物控制：空气中不能有细菌或真菌孢子，以避免污染和质量损失。
- 受控气流：湍流或不均匀的气流运动会导致微粒夹带，因此需要使用层流系统。
- 化学纯度：必须去除环境中材料产生的气体或蒸汽，以防止敏感组件发生不必要的反应或氧化。
空气过滤技术
为满足这些要求，需要使用特殊的过滤系统：
- HEPA 和 ULPA 过滤器（高效微粒空气过滤器和超低渗透空气过滤器）可去除 99.9995 % 以上的微粒，最小可达亚微米范围。
- 活性炭过滤器可吸收气体污染物，保护生产免受化学影响。
- 电离和等离子过滤器用于中和有机物和微生物污染。
对生产微型芯片的重要性
随着半导体芯片体积越来越小、功能越来越强大，对纯度的要求也越来越高。微型化导致结构达到纳米级，这意味着即使是空气中的分子也会带来潜在风险。因此，洁净室技术必须不断发展，以满足微电子日益增长的需求。
得益于最新的过滤技术，我们可以确保生产环境满足严格的洁净度要求，并保证微芯片始终保持高质量。
两个强大的合作伙伴，防止加工过程中的污染
汉格斯特正在采取两项战略措施，以加强其在未来最令人兴奋的市场之一：半导体行业的地位。继 2023 年投资瑞士 AMC 专家 artemis control 之后，2025 年又收购了中国风机过滤器和高效/超高效颗粒物过滤器制造商 CSC Tech 的多数股权。
阿尔忒弥斯控制股份公司
阿尔特米斯控制公司活跃于所有有助于确保半导体、纳米或微技术组件或光学组件生产过程洁净度的活动领域。
由于这通常不仅可以通过一个阶段的洁净度来实现，还可以通过洁净度级联来实现，因此我们为一般建筑服务工程、洁净室技术、工艺技术以及生产系统的定制设计组件开发并提供产品和服务。
自主研发和生产的过滤器组件和超纯介质系统是阿特弥斯控制公司在超纯生产和储存领域为您的项目所采用的组件和系统。
原材料、功能材料和过滤介质、单个过滤组件和组件系统等产品阶段的全面纵向深度整合，为项目设计提供了超越市场常规的可能性。
CSC TECH（智生清洁技术）
CSC TECH 致力于尖端半导体技术洁净室设备的研究和生产，为客户提供整体有效的解决方案，帮助客户提高生产产量、降低能耗和运营成本。
针对洁净室的日常运行，CSC TECH 提供不同组合的风机过滤装置 (FFU)、补风装置 (MAU) 以及 EPA、HEPA 和 ULPA 过滤器材料，并结合在线监测。
公司的产品和服务覆盖了微电子行业的广泛应用。
