Mikrochip-Herstellung
Höchste Sicherheit in der Reinraumproduktion. Gerade die Mikroelektronikfertigung benötigt extrem reine Luft, da selbst winzige Partikel und Moleküle die Qualität und Funktion von Halbleiterchips stark beeinträchtigen können.
Die Herstellung von Mikroelektronik ist die größte treibende Kraft für zukünftige Erfordernisse der Filtertechnik. Mit ihrer langjährigen Erfahrung sind unsere Forschungs- & Entwicklungsingenieure darauf vorbereitet, sich diesen extremen Herausforderungen für sogenannte Mini-Umgebungen – die praktisch staubpartikelfrei sein müssen – zu stellen.
Filtration der Luft in der Produktion von Mikrochips
Die Herstellung von Mikroelektronik erfordert eine extrem saubere Umgebung, da selbst kleinste Partikel die Funktionalität und Qualität der Halbleiterchips erheblich beeinträchtigen können. Diese hohen Anforderungen machen die Filtration der Luft zu einem essenziellen Bestandteil der Produktion.
Herausforderungen und Anforderungen der Luftfiltration
Mikrochip-Fertigungsprozesse, insbesondere in Reinräumen, verlangen eine nahezu partikel- und keimfreie Atmosphäre. Bereits ein Staubkorn mit einem Durchmesser von wenigen Mikrometern kann zu Defekten in der mikroskopisch kleinen Struktur eines Chips führen. Die kritischen Faktoren für die Luftfiltration in diesem Bereich sind:
- Partikelfreiheit: Die Luft muss von jeglichen Verunreinigungen, einschließlich Staub, Aerosolen und chemischen Rückständen, befreit werden.
- Mikroorganismen-Kontrolle: Bakterien oder Pilzsporen dürfen sich nicht in der Luft befinden, um Verunreinigungen und Qualitätseinbußen zu vermeiden.
- Kontrollierte Luftströmung: Turbulenzen oder ungleichmäßige Luftbewegungen können zu Partikeleinschlüssen führen, weshalb laminare Strömungssysteme erforderlich sind.
- Chemische Reinheit: Gase oder Ausdünstungen von Materialien in der Umgebung müssen entfernt werden, um unerwünschte Reaktionen oder Oxidation empfindlicher Komponenten zu verhindern.
Technologien der Luftfiltration
Um diesen Anforderungen gerecht zu werden, kommen spezielle Filtersysteme zum Einsatz:
- HEPA- und ULPA-Filter (High-Efficiency Particulate Air und Ultra-Low Penetration Air) entfernen über 99,9995 % der Partikel bis hinunter in den Submikrometerbereich.
- Aktivkohlefilter absorbieren gasförmige Verunreinigungen und schützen die Produktion vor chemischen Einflüssen.
- Ionisierungs- und Plasmafilter werden verwendet, um organische und mikrobielle Kontaminationen zu neutralisieren.
Bedeutung für die Mikrochip-Produktion
Die Entwicklung immer kleinerer und leistungsfähigerer Halbleiterchips erfordert zunehmend höhere Reinheitsstandards. Die Miniaturisierung führt zu Strukturen im Nanometerbereich, wodurch selbst Moleküle in der Luft ein potenzielles Risiko darstellen können. Die Reinraumtechnologie muss sich daher stetig weiterentwickeln, um den steigenden Anforderungen der Mikroelektronik gerecht zu werden.
Dank modernster Filtertechnologien können wir sicherstellen, dass die Produktionsumgebungen die strengen Reinheitsvorgaben erfüllen und eine gleichbleibend hohe Qualität der Mikrochips gewährleistet ist.
Zwei starke Partner für den Schutz vor Kontamination in Prozessen
Mit zwei strategischen Schritten stärkt Hengst seine Position in einem der spannendsten Zukunftsmärkte überhaupt: der Halbleiter-Industrie. Nach der Beteiligung am Schweizer AMC-Spezialisten artemis control im Jahr 2023 erfolgte in 2025 die Mehrheitsbeteiligung an CSC Tech, einem chinesischen Hersteller von Fanfilter-Units und HEPA/ULPA-Partikelfiltern.
artemis control AG
artemis control ist in allen Tätigkeitsbereichen aktiv, die dazu beitragen können, die Reinheit im Produktionsprozess eines Halbleiters, eines Bauteils der Nano- oder Mikrotechnologie oder einer optischen Komponente sicherzustellen.
Da dies häufig nicht nur durch die Reinheit in einer Stufe, sondern durch eine Reinheitskaskade erreicht werden kann, entwickeln und liefern wir Produkte und Dienstleistungen für die allgemeine Gebäudetechnik, die Reinraumtechnik, die Prozesstechnik und angepasste Designkomponenten für Fertigungsanlagen.
Filterkomponenten und Reinstmediensysteme aus eigener Entwicklung und Fertigung sind die Komponenten und Systeme, die artemis control für Ihre Projekte im Bereich hochreiner Produktion und Lagerung einsetzen.
Die umfassende vertikale und tiefe Integration der Produktstufen Rohstoffe, Funktionsmaterialien und Filtermedien, einzelne Filterkomponenten und Systeme aus Komponenten bieten Möglichkeiten in der Projektgestaltung, die über das marktübliche Angebot hinausgehen.
CSC TECH (CHI SHENG CLEANNESS TECHNOLOGY)
CSC TECH widmet sich der Forschung und Produktion von Reinraumausrüstung für hochmoderne Halbleitertechnologien und bietet seinen Kunden ganzheitliche, effektive Lösungen, die dazu beitragen, den Produktionsoutput zu steigern, den Energieverbrauch zu reduzieren und die Betriebskosten zu senken.
Für den täglichen Betrieb von Reinräumen bietet CSC TECH unterschiedliche Kombinationen aus Fan-Filter-Einheiten (FFU), Make-up Air Units (MAU) sowie EPA, Hepa und Ulpa-Filtermaterialien in Kombination mit einem Online-Monitoring an.
Die Produkte und Dienstleistungen des Unternehmens decken ein breites Spektrum für die Anwendungen in der Mikroelektronikindustrie ab.
